JPH0470136U - - Google Patents

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JPH0470136U JP11049890U JP11049890U JPH0470136U JP H0470136 U JPH0470136 U JP H0470136U JP 11049890 U JP11049890 U JP 11049890U JP 11049890 U JP11049890 U JP 11049890U JP H0470136 U JPH0470136 U JP H0470136U
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005524962A (ja) * 2002-05-08 2005-08-18 ダナ・コーポレーション 複数の放射供給源を有したプラズマ発生装置およびその方法
JP2008508683A (ja) * 2004-07-30 2008-03-21 アマランテ テクノロジーズ，インク． 均一でスケーラブルなマイクロ波プラズマ発生を行うためのプラズマノズルアレイ
JP2010540216A (ja) * 2007-09-21 2010-12-24 アールエフ サミン テクノロジーズ，インコーポレイテッド 複数共振構造のプロセス・反応室のための方法および装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0270063A (ja) * 1988-09-02 1990-03-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> プラズマ／イオン生成源およびプラズマ／イオン処理装置

Patent Citations (1)

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